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  • 光硅氧烷ED100系列 – 派纳斯涂层

    光硅氧烷ED100系列参数


    产品 优势 光敏性mJ/cm2 最大厚度 R.I.@
    633nm
    烤 /固化 溶剂 应用
    ED100 高敏
    高透明度
    高硬度
    20-60 3.5 um 1.48 70°C/1min
    230°C/30min
    IPA
    PGME
    照片图案化钝化
    /ILD
    ED130 高透明度
    高硬度
    低Cu扩散
    60 -10 um 1.50 150°C/1min
    230°C/30min
    PGMEA
    PGME
    照片图案化钝化
    /ILD
    ED410N 硅烷醇型
    高热稳定性
    100-200 1.5 um 1.43 250°C/30min PGMEA 照片图案化钝化
    ED220N 硅烷醇型
    非常高热稳定性
    高击穿电压
    100-200 10um 1.50 250°C/30min PGMEA 用于离散或高压用途的光电图案型绝缘体

    光硅氧烷应用


    直接图案化,光刻胶,过度涂饰,平面化

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